1-1 立法目的

說明

• 整部法制定之核心所在

• 創作 (creation) 是一切人類精神活動成果的統稱，且為發明、新型及設計的上位概念，因此，發明、新型及設計三者明列為適用本法的創作類型。

• 保護：專利制度係對和於專利要件之創作，給予一段時間之排他權利。本法對於專利權之保護，係採民事保護，明定專利權之排他效力包含製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口該物品之權；如有侵權情事，依本法第 96 條以下規定，可請求損害賠償等民事救濟。

• 利用：創作獲准專利後，其技術內容須公告於專利公報。經公告之專利案，任何人居得申請閱覽、抄錄、攝影或影印其審定書、說明書、申請專利範圍、摘要、圖示及全部檔案資料。但專利專責機關依法應予保密者，不在此限。自 91 年 10 月 26 日起發明專利採行早期公開及請求審查制度(第 37-41 條)，發明專利申請案於申請後 18 個月即予以公開，申請人得於申請後 3 年內請求審查，未請求審查者，該專利案視為撤回。

• 促進產業發展：第三人得藉由技術之公開，除避免重複研發外，亦可研究其發明而再為發明。於專利權期間屆滿或消滅後，任何人均得利用此一技術。